大多數(shu)人都知道影響(xiang)拋(pao)(pao)光粉(fen)(fen)的作(zuo)用基本因素(su)有:A,粉(fen)(fen)體懸浮性.B,粉(fen)(fen)體的晶型.C,粉(fen)(fen)體莫氏硬(ying)度.D,粉(fen)(fen)體的粒(li)度大小.那(nei)么拋(pao)(pao)光粉(fen)(fen)粉(fen)(fen)體的粒(li)度大小對拋(pao)(pao)光時(shi)影響(xiang)的作(zuo)用有多大呢?

 稀土(tu)拋(pao)光粉(fen)的粒(li)度大小(xiao)及粒(li)度分布(bu)對拋(pao)光粉(fen)性能有重要影響

  1,拋(pao)光(guang)粉粒度大小應用;

   稀(xi)(xi)土(tu)(tu)(tu)拋(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)粉(fen)(fen)(fen)(fen)也可以根(gen)據(ju)其(qi)(qi)添加劑的 不同種類來劃分(fen)，稀(xi)(xi)土(tu)(tu)(tu)拋(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)粉(fen)(fen)(fen)(fen)生產(chan)技術(shu)屬(shu)于微粉(fen)(fen)(fen)(fen)工程技術(shu)， 稀(xi)(xi)土(tu)(tu)(tu)拋(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)粉(fen)(fen)(fen)(fen)屬(shu)于超細粉(fen)(fen)(fen)(fen)體，上(shang)一般 將(jiang)超細粉(fen)(fen)(fen)(fen)體分(fen) 3 種：納米(mi)(mi)級(ji) (1nm ～ 100nm); 亞微米(mi)(mi)級(ji) ( 100nm ～ 1μ ｍ ) ; 微米(mi)(mi)級(ji) ( 1μm ～ 100μｍ ) 據(ju)此(ci)分(fen)類方法，稀(xi)(xi)土(tu)(tu)(tu)拋(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)粉(fen)(fen)(fen)(fen)可以分(fen)為： 納米(mi)(mi)級(ji)稀(xi)(xi)土(tu)(tu)(tu)拋(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)粉(fen)(fen)(fen)(fen)、亞微米(mi)(mi)級(ji)稀(xi)(xi)土(tu)(tu)(tu)拋(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)粉(fen)(fen)(fen)(fen)及微米(mi)(mi)級(ji)稀(xi)(xi)土(tu)(tu)(tu) 拋(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)粉(fen)(fen)(fen)(fen) 3 類，通(tong)常我們使(shi)用的稀(xi)(xi)土(tu)(tu)(tu)拋(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)粉(fen)(fen)(fen)(fen)一般為微米(mi)(mi)級(ji)，其(qi)(qi)粒(li)度(du)分(fen)布(bu)在 1μ ｍ～ 10μ ｍ之間 ，稀(xi)(xi)土(tu)(tu)(tu)拋(pao)(pao)(pao) 光(guang)(guang)(guang)粉(fen)(fen)(fen)(fen)根(gen)據(ju)其(qi)(qi)物理化學(xue)性(xing)質一般使(shi)用在玻璃(li)拋(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)的后工序，進行(xing)精(jing)磨 ，因此(ci)其(qi)(qi)粒(li)度(du)分(fen)布(bu)一般不大于10μ ｍ，粒(li)度(du)大于 10μ ｍ的拋(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)粉(fen)(fen)(fen)(fen) ( 包括(kuo)稀(xi)(xi)土(tu)(tu)(tu)拋(pao)(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)粉(fen)(fen)(fen)(fen) ) 大多用在玻璃(li)加工初期的粗(cu)磨。

  2.稀土拋光粉粒度分布的影(ying)響(xiang);

   對于組分和(he)(he)加(jia)工工藝的(de)(de)(de)(de)(de)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)粉，平 均(jun)顆(ke)粒尺寸越大(da)，則(ze)玻璃磨(mo)(mo)(mo)削(xue)速(su)(su)度(du)(du)和(he)(he)表面粗糙度(du)(du)越大(da)。在(zai)大(da)多數情況下，顆(ke)粒尺寸約(yue)為 4μm 的(de)(de)(de)(de)(de)拋(pao)(pao)光(guang)(guang) 粉磨(mo)(mo)(mo)削(xue)速(su)(su)度(du)(du)大(da)。相反地，如果拋(pao)(pao)光(guang)(guang)粉顆(ke)粒平均(jun)粒度(du)(du)較小，則(ze)磨(mo)(mo)(mo)削(xue)量(liang)減少(shao) ，磨(mo)(mo)(mo)削(xue)速(su)(su)度(du)(du)降(jiang)低，玻璃表 面平整度(du)(du)提高(gao)，標準拋(pao)(pao)光(guang)(guang)粉一般有較窄的(de)(de)(de)(de)(de)粒度(du)(du)分布，太細和(he)(he)太粗的(de)(de)(de)(de)(de)顆(ke)粒很少(shao)，無大(da)顆(ke)粒的(de)(de)(de)(de)(de)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)粉能(neng)拋(pao)(pao) 光(guang)(guang)出高(gao)質量(liang)的(de)(de)(de)(de)(de)表面，而(er)細顆(ke)粒少(shao)的(de)(de)(de)(de)(de)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)粉能(neng)提高(gao)磨(mo)(mo)(mo)削(xue)速(su)(su)度(du)(du)。

  3,稀土拋光粉納米級的應用;

    一般小(xiao)于(yu)(yu) 1μ ｍ的 亞微米(mi)級(ji)稀土拋光(guang)(guang)粉，由于(yu)(yu)在液晶顯示器(qi)與電腦光(guang)(guang)盤領域的應用逐漸受到重視，產量逐年提(ti)高。納米(mi) 級(ji)稀土拋光(guang)(guang)粉目前也已經問(wen)世(shi)，隨(sui)著現代科學技術(shu)的發(fa)展(zhan)，其應用前景不可預測，但(dan)目前其市場份額 還很小(xiao)，屬于(yu)(yu)研發(fa)階(jie)段。