稀土玻璃拋光材料 

         最早用于玻璃拋光的是氧化鐵，在十七世紀前后就有文獻記載，到了二十世紀初更為盛行。從1933年開始日本就利用氧化物（鈰稀土）在有機硅陶瓷玻璃電子元器件材料上進行拋光處理修復電子元器件的表面。在1950年左右美國和加拿大、瑞士等國家開始利用稀土氧化鈰在手表盤、玻璃、珠寶、水晶等貴重器具表面處理拋光。隨著人們對產品的裝飾越來越高，后期市場不斷開發了，開發了很多的拋光材料，但事實上能拋光玻璃的化合物多為三價和四價的金屬氧化物，如鐵、鋁 、鈰、鈦、鋯、 釷和鉻等稀土復合型α結的構的拋光新材料。但能作為主要基料的是氧化鐵、氧化鈰和氧化鋯，其中以氧化鈰最好、氧化鋯居中氧化鐵最差。特別是在光學玻璃的拋光上稀土拋光粉由于具有光潔度好 ! 高速 ! 長壽命等優點而得到廣泛應用。 

       關于COVER LENS行業著重闡述：（手機蓋板玻璃） 玻璃冷加工行業的拋光俗稱研磨，平磨，曲拋（雙面拋，單面拋，掃邊，拋光）是指用氧化鈰拋光粉或者拋光液流射在高速玻璃拋光機工作面（拋光用地毯，或者毛刷，劍麻，絞絲，拋光革，聚氨酯拋光革）等材料面上。高速旋轉摩察使其玻璃表面光亮的過程。 平磨又叫研磨或者叫雙面研磨，用雙面研磨機，上下盤上粘貼白色磨皮或者聚氨酯紅色磨皮為基材。中間用游星輪（牙板）做治具放玻璃，上下盤反方向轉動注射拋光粉溶液來研磨的過程。 1、作用：用來減薄（或者叫下絲 或者讓降面）一般用雙面研磨來把玻璃原料的厚度修正或者修復玻璃在加工過程中產生的劃傷。在或者玻璃有翹曲時用來矯正玻璃。或者玻璃不平整時來將其修復平整。 2、作用：平磨機上毛毯下磨皮，即可平面拋光也修復底部劃傷。還以矯正玻璃翹曲。

  當前玻璃拋光市場的現狀：

 從2011年開始拋光粉最貴的時候市場上出現了一種用稀土拋光粉為原料勾兌的拋光液。但是時機不成熟，當時的含量都在35%左右，切穩定性很差。當時出現的板結，發酸。不好洗等等問題導致市場不認同，未被市場接受。 15年開始由于2.5D蓋板的爆發，各種掃光機器 應運而生。高速高壓密封條件下磨粉液溫度升高有的工廠磨粉液溫度甚至達到80-90度。導致治具印，磨粉印。等等掃光不量。 在此拋光液出現在手機玻璃保護片市場，基本可以解決一些問題。但不能堅決全面的問題。一支好用高效的玻璃拋光液是有一定科學依據的。是一支基于有機化學高分子和納米氧化鈰制備出來的一支高效拋光漿料。這支產品的特點是：有玻璃損傷自我修復高效，研磨拋光效率高，容易清洗，無毒。隨著拋光液在市場又一次崛起，市場上出現了，有的不良商販拿著DLS-2014-03#拋光液自己去分析，做出來的東西四不像。實到至今很多做玻璃拋光液加工企業的老板都不太明白拋光液（拋光膏）研磨機理。直到今日市場上出現了各種拋光液，拋光漿，拋光膏出現。魚目混雜 ，沒有一點科學依據。在此我想問問各位看官和行業學者們，有知道CMP平臺嗎？研究研磨的人應該知道。拋光液是基于高分子材料、無機納米材料、有機化學等材料通過物理反應才能到達拋光效果。如：拋光液（拋光膏）的關鍵材料之一“表面活性劑”在拋光液中加入一定量的表面活性劑，能夠改善拋光液的分散、潤滑、保濕、助磨及熱穩定性，使表面活性劑吸附在磨粒的表面，從而改變磨粒的表面性質，增強了顆粒間的排斥作用能 。既能滿足降低新生表面能量的要求又易于吸附后的清洗，同時促進了反應產物與的質量傳遞，由于整個工件表面吸附了一層表面活性劑，阻止了拋光液中氧化劑的進入，中斷了化學反應的進行，從而使得工件表面材料去除率很低，常稱之為“自停止”現象。 　　

在實驗研究中發現表面活性劑的吸附模型和性質，結果表明一個較好的表面活性應該是在其質量分數較低時就能達到吸附飽和狀態，即質量分數較低時就有最低的表面張力。表明可以用達到最低表面張力時得質量分數大小來衡量表面活性劑的表面活性。 　　另外，表面活性劑質量分數對拋光液的性質有很大的影響。隨著表面活性質量分數的增加，拋光液的表面張力顯著減少，但當質量分數值達到某一臨界質量分數時，表面張力變化緩慢。因此，需嚴格的控制表面活性劑的用量，才能達到最佳的拋光效果。