氧化(hua)鈰拋光(guang)粉主要成(cheng)份為二氧化(hua)鈰（CeO2），其次分別為氧化(hua)鑭（La2O3）、氧化(hua)鐠（Pr2O3）、氧氟化(hua)鑭（LaOF），此(ci)外(wai)還含有微量(liang)的氧化(hua)硅(gui)、氧化(hua)鋁和氧化(hua)鈣(gai)。

        氧化鈰拋光粉生(sheng)產(chan)工(gong)藝：

       ☆高鈰系稀土拋光粉的生(sheng)產

       以稀土混合物分離(li)后的(de)氧化鈰為原料，以物理化學方法加(jia)工成硬度大(da)、粒度均勻、細小(xiao)，呈面心立方晶體的(de)粉末產品(pin)。

      其主要(yao)工藝(yi)過(guo)程為 : 原(yuan)料 → 高溫(wen) → 煅燒 → 水(shui)淬 → 水(shui)力分級 → 過(guo)濾(lv) → 烘(hong)干 → 高鈰(shi)稀(xi)土(tu)拋光(guang)(guang)粉產(chan)品(pin)。主要(yao)設(she)備有 : 煅燒爐，水(shui)淬槽，分級器，過(guo)濾(lv)機(ji)，烘(hong)干箱。 主要(yao)指標 : 產(chan)品(pin)中w(REO)=99% ，w(CeO2)=99%; 稀(xi)土(tu)回收率約(yue)95%。該產(chan)品(pin)適用于高速拋光(guang)(guang)。這種高鈰(shi)拋光(guang)(guang)粉早代替了古(gu)典拋光(guang)(guang)的氧化鐵粉（紅粉）。

       ☆中鈰系稀土(tu)拋光(guang)粉的制備 

       用(yong)混(hun)合稀土(tu)(tu)氫氧化(hua)物(w(REO)=65% ，w(CeO2)≥48%) 為(wei)原(yuan)料，以化(hua)學(xue)方法預處理得稀土(tu)(tu)鹽溶(rong)液，加入中(zhong)間體( 沉淀劑) 使轉化(hua)成 w(CeO2)=80% ～ 85% 的中(zhong)級鈰系(xi)稀土(tu)(tu)拋光粉產品。其(qi)主(zhu)要工藝過程為(wei):

       原(yuan)料 → 氧化 → 優溶 → 過濾 → 酸溶 → 沉淀 → 洗滌過濾 → 高溫煅燒 → 細磨篩分 → 中級(ji)鈰系(xi) 稀土(tu)拋光(guang)粉產品。

       主要設(she)備有 : 氧化槽(cao)(cao)，優溶槽(cao)(cao)，酸溶槽(cao)(cao)，沉(chen)淀槽(cao)(cao)，過濾(lv)機(ji)，煅燒爐(lu)，細磨篩(shai)分(fen)機(ji)及包裝機(ji)。

       主要指標(biao) : 產品中 w(REO)=90% ， w(CeO2) =80% ～ 85% ; 稀土催(cui)化材料回收率約 95% ; 平均粒度 0.4 微米 ～ 1.3微米 。該產品適(shi)用于(yu)高(gao)速拋(pao)光，比高(gao)級鈰稀土拋(pao)光粉(fen)進行(xing)高(gao)速拋(pao)光的性能(neng)更為優良。

       ☆低鈰系(xi)稀土拋(pao)光(guang)粉的制(zhi)備

       以少銪氯化稀土(tu) (w(REO)≥45% ，w(CeO2)≥48%) 為原料(liao)，以合成中間體(ti)( 沉淀劑) 進行復鹽沉淀等處理，可制備低級鈰(shi)系(xi)稀土(tu)拋光粉產(chan)品。

       其主要(yao)工藝(yi)過程為 : 原料(liao) → 溶解 → 復鹽沉淀 → 過濾洗(xi)滌(di) → 高溫(wen)煅燒 → 粉(fen)碎(sui) → 細磨篩分 → 低級鈰(shi)系稀土拋光(guang)粉(fen)產品。

       主要設備有 : 溶解槽，沉淀槽，過濾機(ji)，煅燒爐，粉碎機(ji)，細磨篩分機(ji)。

       主要指標 : 產品中 w(REO)=85% ～ 90% ， w(CeO2)=48% ～ 50%; 稀(xi)土回收率約 95%; 平均粒徑 0.5微米～ 1.5微米 。

       目前，國內生產(chan)的(de)(de)低(di)級(ji)鈰(shi)系稀土拋光(guang)粉(fen)的(de)(de)量(liang)多(duo)，約占總(zong)產(chan)量(liang)的(de)(de) 90% 以(yi)上。